무기 분말인 실리콘 미세 분말은 고분자 재료에 널리 사용됩니다. 표면 개질 후, 천연 석영은 실리콘 미세 분말을 흡수합니다.석영분쇄기이 소재는 높은 절연성, 우수한 열 안정성, 낮은 열팽창 계수, 내산성 및 내알칼리성, 내마모성 등과 같은 탁월한 특성을 지니고 있어 전자, 전기, 유리섬유, 고무 및 플라스틱, 페인트, 생활화학 제품 등 다양한 산업 분야에서 널리 사용될 수 있습니다.

천연 석영에서 실리콘 분말을 생산할 때 표면 개질 처리를 사용해야 하는 이유

실리콘 미세 분말 자체는 극성이고 친수성 물질이므로 고분자 매트릭스의 계면 특성과 다르며 상용성이 떨어지고 기저 재료에 분산시키기가 어렵습니다. 따라서 실리콘 미세 분말의 표면을 개질하고 응용 분야의 요구에 따라 실리콘 미세 분말 표면의 물리적, 화학적 특성을 의도적으로 변화시켜 유기 고분자 재료와의 상용성을 향상시키고 고분자 재료 내에서의 분산성 및 유동성 요구 조건을 충족시키는 것이 일반적으로 필요합니다.

석영으로부터 규소 분말을 얻은 후 천연 석영의 응용 분야분쇄기

실리콘 미세 분말은 동박 적층판(CCL), 고무, 플라스틱, 코팅, 에폭시 수지, 전기 절연 재료, 접착제, 건축 자재 등 다양한 분야에 사용될 수 있습니다. CCL의 충전재로 사용될 경우, 결정질 실리콘 미세 분말은 생산량이 적고 가격이 저렴한 산업 분야에서 활용될 수 있으며, CCL의 열 안정성, 강성, 열팽창 계수 등의 특성을 일정 수준까지 향상시킬 수 있습니다. 실리콘 미세 분말은 입자 크기가 작고 비표면적이 넓으며 내열성 및 내마모성이 우수하다는 장점이 있습니다. 이를 통해 고무 복합재의 내마모성, 인장 강도 및 탄성률, 높은 인열 저항성 등의 특성을 개선할 수 있습니다. 또한, 코팅 산업에서 충전재로 사용될 경우 코팅 제조 비용을 절감할 뿐만 아니라 내열성, 내산성, 내알칼리성, 내마모성, 내후성 등 코팅 성능을 향상시킬 수 있습니다.

천연 석영을 사용한 석영의 공정 흐름도분쇄기실리콘 분말 생산

이산화규소(SiO2)는 결정질과 비정질 두 가지 형태로 존재하므로, SiO2 미세 분말은 결정질과 비정질 상태를 모두 포함합니다. SiO2 결정에서 각 실리콘 원자는 네 개의 인접한 산소 원자에 둘러싸여 있으며, 이 네 개의 산소 원자의 중심에 위치합니다. 실리콘 원자는 이 네 개의 산소 원자와 공유 결합을 형성하여 실리콘-산소 사면체를 기본 구조로 하는 3차원 망상 구조를 이룹니다. SiO2의 결정 구조는 그림에 나타나 있습니다. 실리카 미세 분말은 천연 석영이나 용융 석영을 분쇄, 연삭, 부유선별, 산세척, 정제, 고순도 수처리 등의 공정을 통해 제조할 수 있습니다.

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